彩色濾光片光刻膠（Color Filter Photoresist, CF光刻膠）是顯示光刻膠中價(jià)值量最大、種類最多的部分。與TFT光刻膠不同，CF光刻膠在光刻成型后會(huì)保留在面板內(nèi)部，直接參與畫面的顯示。彩色光刻膠（RGB Resist）： 包含紅（R）、綠（G）、藍(lán)（B）三種顏色的光刻膠。它們內(nèi)部添加了納米級(jí)的彩色顏料，光刻成型后構(gòu)成彩色像素點(diǎn)，是液晶顯示器實(shí)現(xiàn)色彩的關(guān)鍵。黑色光刻膠（Black Matrix, BM）：用于隔離RGB像素，防止漏光和混色，提升屏幕對(duì)比度。

黑色光刻膠實(shí)驗(yàn)室研發(fā)工藝流程

1. 涂布

使用透明基板（玻璃、耐熱樹脂等，可帶ITO電極或TFT陣列）。

涂布方式：旋涂、線棒涂布、流延涂布、狹縫涂布、輥涂、噴涂等。

干燥后膜厚目標(biāo)：0.5～3μm

2. 干燥

減壓干燥：真空干燥裝置，100 Pa，30秒。

加熱干燥：熱板或烘箱，110℃加熱120秒。

溫度過高會(huì)分解堿溶性樹脂或引發(fā)熱聚合，溫度過低則干燥不均。

3. 曝光

使用負(fù)性光掩模，在涂膜上覆蓋掩模圖案。

光源：超高壓汞燈，波長(zhǎng)以365nm（i線）為主。

曝光強(qiáng)度：45 mW/cm2，曝光量：50 mJ/cm2（全面曝光用于測(cè)試基板）。

4. 顯影

顯影液：0.04% KOH水溶液。

顯影方式：噴淋顯影，水壓0.05 MPa，23℃，80秒。

之后停止顯影用純水洗凈，也可使用含界面活性劑的堿性水溶液或有機(jī)溶劑。

5. 熱固化

溫度：230℃，時(shí)間：30分鐘（常規(guī)測(cè)試）。熱固化后完成黑色矩陣。

黑色光刻膠遮光性能評(píng)價(jià)方法

光學(xué)密度(Optical Density,OD)是表征黑色矩陣遮光性能的常用光學(xué)參數(shù),OD值越高,黑色矩陣遮光性能越高,防止彩色像素之間色彩干擾能力越強(qiáng),圖像的顯示對(duì)比度越好。通常用單位膜厚光學(xué)密度（單位OD值，OD/μm）計(jì)算表示：OD/μm = 實(shí)測(cè)OD值 / 實(shí)測(cè)膜厚（μm），單位OD測(cè)試值≥ 4.0/μm以上，BM遮光性能優(yōu)異。

測(cè)試步驟

光學(xué)密度（OD值）：使用Labodorf 351C透射密度計(jì)測(cè)量; 膜厚：白光干涉顯微鏡測(cè)量

1. 連接電源開機(jī)后用出廠隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)光密度片進(jìn)行調(diào)零校準(zhǔn)，3點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)片OD值測(cè)量確認(rèn)無誤后，光密度儀準(zhǔn)備完畢。

2. 將BM樣品放到測(cè)量孔上方，按下測(cè)量臂，即得黑色光刻膠樣品OD值。